表面不锈钢镀钛公司承诺守信「金常来」 [金常来)681ff2e]"内容：
PVD真空镀层按照膜层应用来分类可分为装饰膜层和硬质膜层：
装饰膜层可以改善工件外观装饰性能和色泽同时使工件更耐磨耐腐蚀；硬质膜层用于提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系数，提高工件的使用寿命。
除油—去污—流水冲洗—去离子水冲洗—脱水
过清洗线后将工件挂到PVD治具上，放入烤箱烘烤干燥
薄膜的制备方法很多，主要有气相法和液相法，其中气相法又分为物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）两大类。
在靶材和衬底之间加上一个直流高压，极板间的气体（一般为Ar2）电离，高速带电离子轰击靶材表面的溅射镀膜技术。据悉，纳米喷镀制品表面拥有卓越的附着力、抗冲击力和耐腐蚀性，而这是经过市场和用户的检验的，这一性能也满足了用户的生产需求。要保持自持放电，在两极板间距为数厘米的正常溅射间距下，放电气压一般高达10帕，这对溅射效率和薄膜质量都是不利的。因此，直流溅射多采用非自持放电，也就是加入热电子发射极和辅助阳极的四极溅射，可使溅射在10-1～10-2帕的低气压下进行。
其中热阴极电子枪蒸发离子镀，利用铜坩埚加热融化被镀金属材料，利用钽灯丝给工件加热、除气，利用电子枪增强离化率，不但可以得到厚度 3~5μm的TiN 涂层，而且其结合力、耐磨性均有不俗表现，甚至用打磨的方法都难以除去。PVD(PhysicalVaporDeition)即物理气相沉积，分为：真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。但是这些设备都只适合于 TiN涂层，或纯金属薄膜。对于多元涂层或复合涂层，则力不从心，难以适应高硬度材料高速切 削以及模具应用多样性的要求。
磁控溅射是70年代在阴极溅射的基础上发展起来的一种新型溅射镀膜法,由于它有效地克服了阴极溅射速率低和电子使基片温度升高的致命弱点,因此获得了迅速的发展和广泛的应用.
1. 磁控溅射:
离子轰击靶材将靶面原子击出的现象称为溅射.溅射产生的原子沉积在基体(工件)表面即实现溅射镀膜.
磁控溅射的基本原理:
磁控溅射是在溅射区加了与电场方向垂直的磁场,处于正交电场区E和磁场B中的电子的运动方程,
以上信息由专业从事表面不锈钢镀钛公司的金常来于2024/4/23 13:43:54发布
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