镀钛板种类多,有镀钛毛丝面板、镀钛镜面板及镀钛乱纹板和镀钛雾珠板等,在经过设计师的巧思之下,不同面材可以呈现出不同的空间表现,在使用上,也可以带出线条的俐落、几何的造型等趣味感。目前,镀钛材质常被运用在室内公共空间,如餐厅、客厅或玄关。但如果预算上许可,大也可以用在更衣间或卧房,或设计于桌面。使用镀钛镜面板,其反光效果好,可以让视觉空间变得前卫。带正电荷的离子受阴极负高压的吸引,猛烈地轰击工件表面,致使工件表层粒子和脏物被轰溅抛出,从而使工件待镀表面得到了充分的离子轰击清洗。
PVD是英文Physical VaporDeition(物理气相沉积)的缩写,是指在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术,在基材上沉积形成不同颜色和质感的薄膜。PVD膜层赋予产品表面金属质感和丰富的颜色,并改善耐磨、耐腐蚀性,延长寿命。已经广泛应用于表壳、表带、手机壳、建筑五金、模具刀具等产品。对于多元涂层或复合涂层,则力不从心,难以适应高硬度材料高速切削以及模具应用多样性的要求。
PVD(Physical Vapor Deition),在真空条件下,采用物理方法,使材料源表面气化成原子、分子或离子,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。PVD主要分为蒸镀、溅射和离子镀三大类。
蒸发镀膜
真空条件下,将镀料加热蒸发或升华,材料的原子或分子直接在衬底上成膜的技术。根据加热方法的不同主要有以下几种蒸发镀膜技术。
采用电阻加热蒸发源的蒸发镀膜技术,一般用于蒸发低熔点材料,如铝、金、银、硫化锌、氟化镁、三氧化二铬等;加热电阻一般采用钨、钼、钽等。
磁控溅射是70年代在阴极溅射的基础上发展起来的一种新型溅射镀膜法,由于它有效地克服了阴极溅射速率低和电子使基片温度升高的致命弱点,因此获得了迅速的发展和广泛的应用.
1. 磁控溅射:
离子轰击靶材将靶面原子击出的现象称为溅射.溅射产生的原子沉积在基体(工件)表面即实现溅射镀膜.
磁控溅射的基本原理:
磁控溅射是在溅射区加了与电场方向垂直的磁场,处于正交电场区E和磁场B中的电子的运动方程,
以上信息由专业从事金属表面镀钛厂家公司的金常来于2024/5/6 12:37:21发布
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