电弧蒸发镀膜
在高真空下通过两导电材料制成的电极之间产生电弧放电,利用电弧高温使电极材料蒸发。电弧源的形式有交流电弧放电、直流电弧放电和电子轰击电弧放电等形式。
优点薄膜纯度高造价低适用于具有一定导电性的难熔金属、石墨等
缺点
会飞溅出微米级的靶材料颗粒,影响薄膜质量
利用高频电磁场感应加热,使材料汽化蒸发在基片表面凝结成膜的技术。
涂层种类选择
1)氮化钛涂层(TiN)
TiN是一种通用的涂层,可以提高刀具硬度并具有较高的氧化温度。
用途:高速钢切削工具,慢速加工工具(如低速车刀粒),耐磨零件,注塑
模具。
2)氮碳化钛涂层 (TiCN)
TiCN涂层是在TiN的基础上添加碳元素,以提高涂层的硬度和低的摩擦系数。
用途:高速具,冲压模具,成型模具
3)氮铝钛(TiAlN)、 氮钛铝AlTiN
俗称:中铝(Al:Ti=50:50)、高铝(Al:Ti=67:33)以上,
TiAlN/AlTiN涂层在加工过程中形成的氧化铝涂层可以有效提高加工工具的高温加工寿命,AlTiN涂层的抗高温氧化比TiAlN要高100度左右。
基片置于合适的位置是获得均匀薄膜的前提条件.
b、压强的大小. 为了保证膜层质量,压强应尽可能低Pr≦(Pa)
L表示蒸发源到基片的距离为L(cm)。
c、蒸发速率.蒸发速率小时,沉积的膜料原子(或分子)上立刻吸附气体分子,因而形成的膜层结构疏松,颗粒粗大,缺陷多;反之,膜层结构均匀致密,机械强度高,膜层内应力大.
d、基片的温度.在通常情况下,基片温度高时,吸附原子的动能随之增大,形成的薄膜容易结晶化,并使晶格缺陷减少;基片温度低时,则没有足够大的能量供给吸附原子,因而容易形成无定形态薄膜.
以上信息由专业从事处理镀钛厂家电话的金常来于2024/4/23 13:04:59发布
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