、工作温度：不同的镀膜需要不同的温度，比如镀金色TiN，温度580℃。镀银灰色TiCN温度是450℃。
2、工作时间：由于不同镀膜需要的温度不同，以致不同的镀膜需要不同的时间来控制；
3、材料本身：产地、厚度、规格、内部构成化学元素、表面初始加工的相似度；
4、真空镀膜材料：目前真空镀膜常规材料大致有：碳化钛、氮化钛、碳氮化钛等，可以满足市面常规（普通）的镀膜需要，比较的镀膜材料有氮化钛铝，氮化铬膜等，用于加工比较复杂、的颜色；
5、不同的加工环境、不同的镀钛炉、不同的镀钛技工的处理方式都会对镀钛结果产生不同程度的影响；
6、由于不锈钢表面加工工序的复杂性，每一张板材的每一道工序是不可能控制到一致的，这就直接影响到终成品的表面色泽，这也是目前该行业技术上的一个瓶颈。
PVD是英文Physical VaporDeition（物理气相沉积）的缩写，是指在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术，在基材上沉积形成不同颜色和质感的薄膜。PVD膜层赋予产品表面金属质感和丰富的颜色，并改善耐磨、耐腐蚀性，延长寿命。圆柱形磁控溅射阴极也逐步运用到生产当中(图b),两者相比,平面靶材的利用率只有20~30%,即利用率低。已经广泛应用于表壳、表带、手机壳、建筑五金、模具刀具等产品。
磁控溅射是70年代在阴极溅射的基础上发展起来的一种新型溅射镀膜法,由于它有效地克服了阴极溅射速率低和电子使基片温度升高的致命弱点,因此获得了迅速的发展和广泛的应用.
1. 磁控溅射:
离子轰击靶材将靶面原子击出的现象称为溅射.溅射产生的原子沉积在基体(工件)表面即实现溅射镀膜.
磁控溅射的基本原理:
磁控溅射是在溅射区加了与电场方向垂直的磁场,处于正交电场区E和磁场B中的电子的运动方程,
以上信息由专业从事镀钛公司的金常来于2024/4/20 9:38:18发布
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